PEN鍍銅膜的原理
    PEN鍍銅膜是一種新型的鍍銅工藝，它采用了光刻、鍍銅和激光等多種工藝，可以在不破壞基材表面的情況下實(shí)現(xiàn)高速、高效、低成本的鍍銅。
PEN鍍銅膜的優(yōu)勢
    PEN鍍銅膜具有以下優(yōu)勢：
    1. 耐腐蝕性：PEN鍍銅膜具有很好的耐腐蝕性，可以抵抗多種化學(xué)介質(zhì)的腐蝕。
    2. 耐磨損性：PEN鍍銅膜具有良好的耐磨損性，可以有效抵抗外界的磨損。
    3. 耐沖擊性：PEN鍍銅膜具有較強(qiáng)的耐沖擊性，可以承受外界的沖擊。
    4. 耐高溫性：PEN鍍銅膜具有較高的耐高溫性，可以承受高溫環(huán)境。

    PEN鍍銅膜主要應(yīng)用于印刷電路板、薄膜太陽能電池、液晶顯示屏、集成電路、光學(xué)元件等行業(yè)，具有廣泛的應(yīng)用前景。

PEN介紹

 聚萘二甲酸乙二醇酯的簡稱PEN,外形：白色顆粒，原料加工溫度 熔點(diǎn):265℃，加工溫度:280℃；試驗(yàn)前烘干溫度與時間：180℃，3h；
原料保存要求：常溫陰涼干燥。具有氣體阻隔性能好、良好的化學(xué)穩(wěn)定性，優(yōu)異的耐熱性能和耐紫外線輻射性能。應(yīng)用：由于PEN膜的耐熱性、薄膜強(qiáng)度較好，用于汽車傳感器及絕緣零配件方面也有一定的發(fā)展前途。再者，F(xiàn)級絕緣膜更具有應(yīng)用前景。目前PEN薄膜主要應(yīng)用于磁帶的基帶、柔性印刷電路板、電容器膜、F級絕緣膜等方面。